3月19日，英伟达宣布，为加快下一代先进半导体芯片的制造速度并克服物理限制，TSMC和Synopsys将在生产中使用NVIDIA计算光刻平台。

台积电、新思科技已将NVIDI AcuLitho集成到其软件、制造工艺和系统中，在加速芯片制造速度的同时，加快对未来最新一代NVIDIA Blackwell架构GPU的支持。

英伟达CEO黄仁勋表示，计算光刻技术是芯片制造的基石，公司与台积电和新思科技合作开发的cuLitho技术，应用了计算加速和生成式人工智能（AI），从而开辟半导体制造的新领域。

同时，英伟达宣布推出新的生成式AI算法，增强cuLitho。与当前基于CPU计算的方法相比，可显著改进半导体制造工艺。

英伟达指出，计算光刻是半导体制造过程中计算最密集的工作负载，每年消耗数百亿小时CPU运行时间。其中芯片生产关键步骤中的典型掩模，可能需要耗费3000万或者更多小时CPU计算时间，这就需要在半导体代工厂内建设大型数据中心。